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# A Rússia surpreende: seu primeiro equipamento de fotolitografia UVE já está pronto, mesmo diante das adversidades
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- Published: 2024-05-28T13:31:37.000Z
- Updated: 2025-02-25T09:08:03.000Z
- Author: Silmara Firmino
- Tags: Tecnologia, #Import 2026-01-06 04:33

A mídia está ciente de cada passo que o governo chinês toma para fortalecer a sua indústria de circuitos integrados. Na atual situação em que se impõe a tensão entre o país liderado por Xi Jinping, por um lado, e os EUA e seus aliados, por outro, é compreensível que **China rouba os holofotes**. A Rússia, no entanto, está passando relativamente despercebida nesta área, e as notícias que vamos aprofundar lembram-nos que não deveria ser assim.

Vasily Shpak, vice-ministro da Indústria e Comércio da Federação Russa, anunciou durante a conferência "Indústria Digital da Rússia Industrial" que seu país já preparou seu primeiro equipamento de fotolitografia ultravioleta extremo (EUV). Ainda não conhecemos os fundamentos tecnológicos desta máquina, e a Rússia poderá nunca tornar pública esta informação, mas presumivelmente deveria confiar numa tecnologia não muito diferente da utilizada pela ASML em seu próprio equipamento de litografia EUV.

## Este protótipo pode fabricar chips de 350 nm, mas a Rússia não vai parar por aí

A complexidade de uma máquina de litografia EUV é muito alta. A ASML demorou mais de duas décadas para ter equipamentos totalmente funcionais e equipados com esta tecnologia, e contou com o apoio financeiro e tecnológico de seus melhores clientes. A Intel investiu nada menos que US$ 4 bilhões em 2012 para ajudar a financiar o desenvolvimento desta máquina de fabricação de chips. Precisamente esta complexidade explica porque a China ainda não tem sua própria máquina de litografia EUV, e é surpreendente que a Rússia já tenha um protótipo pronto.

![A TSMC resolveu um dos seus maiores problemas: em 2024 triplicará a produção de chips de 3nm](https://i.blogs.es/ff24ac/tsmc-ap/375_142.jpeg)

Em 2026, a Rússia deverá ter pronto um protótipo de equipamento de litografia EUV capaz de fabricar chips de 130 nm

Além disso, Vasily Shpak confirmou que sua construção é inteiramente russa e, mais importante, também antecipou que esta primeira máquina SVU é capaz de **fabricar circuitos integrados de 350 nm**. Parece muito pouco se tivermos em mente que a empresa taiwanesa TSMC e a sul-coreana Samsung estão fabricando semicondutores de 3nm com equipamentos UVE da ASML. Contudo, o que é realmente importante é que a Rússia já possui a tecnologia necessária para desenvolver estas máquinas de fotolitografia.

A partir daqui, seus engenheiros e físicos podem refinar gradualmente sua tecnologia para tornar possível a produção de circuitos integrados mais avançados. Na verdade, é exatamente isso que o governo russo planeja fazer. E seu itinerário estabelece que em 2026 a Rússia deverá ter pronto um protótipo de equipamento de litografia EUV capaz de fabricar chips de 130 nm. E em 2028 outro semelhante capaz de produzir circuitos integrados de 7 nm. A priori parece um plano exageradamente ambicioso, mas seria imprudente subestimar a capacidade dos físicos e engenheiros russos. Veremos o que acontece.

Seja como for, se a Rússia conseguir finalmente ter um equipamento de litografia EUV capaz de fabricar circuitos integrados de 7 nm em 2028, estará perturbadoramente próxima dos EUA e seus aliados neste domínio. Com esta tecnologia é possível **produzir chips de última geração** que podem ser utilizados em smartphones, computadores, servidores, equipamentos de telecomunicações e, claro, também em armas de última geração.

Além disso, Ijiwei, o meio chinês especializado em semicondutores que obteve esta informação, garante que este primeiro equipamento de litografia russo é muito mais barato que um equipamento ASML EUV. A máquina russa custará pouco mais de 51 mil euros, enquanto a alternativa holandesa custa cerca de 165 milhões de euros. A diferença é esmagadora.

Mais informações | DigiTimes Ásia

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